A03c班 伊藤暁彦准教授らが、第19回次世代先端光科学研究会 (応用物理学会 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ　第3回研究会)にて”CVD法によるSrHfO3膜の合成とPLおよびシンチレーション特性評価”の発表を行いました。

"CVD法によるSrHfO3膜の合成とPLおよびシンチレーション特性評価"
藤江清花, 黒澤俊介, 伊藤暁彦
第19回次世代先端光科学研究会 (応用物理学会 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ　第3回研究会)，オンライン，2021年10月8日