A03c班 伊藤暁彦准教授らが、第16回セラミックフェスタin神奈川にて “化学気相析出法によるHfO2–TiO2系膜の合成”の発表を行いました。

A03c班 伊藤暁彦准教授らが、第16回セラミックフェスタin神奈川にて "化学気相析出法によるHfO2–TiO2系膜の合成"の発表を行いました。

"化学気相析出法によるHfO2–TiO2系膜の合成"
橋本優花, 伊藤暁彦
第16回セラミックフェスタin神奈川，オンライン，2021年11月27日